Reklama

PLASMA (PSM): Pozytywna ocena wniosku Emitenta o dofinansowanie projektu - działanie 1.4 POIG - raport 18

Zarząd Spółki Plasma SYSTEM S.A. z siedzibą w Siemianowicach Śląskich informuje, że w dniu w dniu 22.10.2012r. pozyskał informację o pozytywnej ocenie projektu zgłoszonego przez Spółkę do dofinansowania w konkursie w ramach Działania 1.4 POIG "Wsparcie projektów celowych". Projekt "Opracowanie technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich na elementach hydrauliki siłowej" w wyniku pozytywnej oceny merytorycznej Narodowego Centrum Badań i Rozwoju został rekomendowany do dofinansowania.


Całkowita wartość projektu wynosi 4,46 mln PLN, w tym wnioskowana, a zarazem rekomendowana kwota dofinansowania wynosi 2,49 mln PLN.

Reklama


Celem projektu jest poszerzenie i wzrost innowacyjności oferty produktowej i usługowej Spółki poprzez opracowanie i wdrożenie innowacyjnej technologii laserowego wytwarzania warstw wierzchnich w produkcji i regeneracji elementów hydrauliki siłowej.


Podstawa prawna:

§ 3 ust. 1 Załącznika Nr 3 do Regulaminu Alternatywnego Systemu Obrotu "Informacje Bieżące i Okresowe przekazywane w alternatywnym systemie obrotu na rynku NewConnect".

Osoby reprezentujące spółkę:
Sławomir Wawrzyniak - Prezes Zarządu
Andrzej Gruszka - Wiceprezes Zarządu

Reklama

Reklama

Reklama

Reklama

Strona główna INTERIA.PL

Polecamy

Finanse / Giełda / Podatki
Bądź na bieżąco!
Odblokuj reklamy i zyskaj nieograniczony dostęp do wszystkich treści w naszym serwisie.
Dzięki wyświetlanym reklamom korzystasz z naszego serwisu całkowicie bezpłatnie, a my możemy spełniać Twoje oczekiwania rozwijając się i poprawiając jakość naszych usług.
Odblokuj biznes.interia.pl lub zobacz instrukcję »
Nie, dziękuję. Wchodzę na Interię »