XTPL (XTP): XTPL SA (2/2025) Uznanie ochrony patentowej przez Urząd Patentowy Korei Południowej (KIPO). - raport 2/2025

Raport bieżący 2/2025

Zarząd XTPL S.A. ["Emitent", "Spółka", "XTPL"] informuje, że w dniu 13 stycznia 2025r. Spółka otrzymała informację o zatwierdzeniu przez urząd patentowy w Korei Południowej zastrzeżeń patentowych dla wynalazku "Methods of Dispensing a Metallic Nanoparticle Composition from a Nozzle onto a Substrate".

Procedura zgłoszeniowa dla tego patentu została rozpoczęta 28 lipca 2020r. Wymogiem formalnym uzyskania patentu jest wniesienie stosownych opłat. W przypadku ewentualnego niespełnienia wymogu, Spółka przekaże odrębny komunikat bieżący.

Reklama

Uzyskana ochrona patentowa wpłynie na podniesienie wartości potencjalnej komercjalizacji technologii Spółki w zakresie rozwiązań technologicznych Emitenta dla rynku elektroniki nowej generacji. Opisane zdarzenie stanowi potwierdzenie realizacji przez Spółkę strategii budowania rodziny patentowej dla rozwijanej technologii oraz produktów, co stanowić będzie element budujący wiarygodność Emitenta wobec potencjalnych klientów przemysłowych.

W związku z powyższym oraz z uwagi na potwierdzenie unikalności rozwiązań technologicznych Spółki, a w dalszej kolejności na perspektywę postrzegania Emitenta przez inwestorów, Zarząd Emitenta uznał fakt zatwierdzenia zastrzeżeń patentowych dla przedmiotowego wynalazku za informację poufną. W związku z powyższym, w opinii Zarządu spełnia kryteria wskazane w art. 7 ust. 1 Rozporządzenia MAR.

Title:

Patent approval by Korean Intellectual Property Office

Legal basis:

Article 17(1) MAR - confidential information.

Content of the Report:

The Management Board of XTPL ("Issuer", "Company", "XTPL") hereby

reports that on 13 January 2025 it received the notice of allowance and

information related to allowed claims issued by the Korean Intellectual

Property Office. The patent application has been examined and is allowed

for issuance as a patent for an invention "Methods of Dispensing a 

Metallic Nanoparticle Composition from a Nozzle onto a Substrate".

The application procedure for this patent was initiated on 28 July 2020.

The final formal requirement for obtaining the patent is to pay the

necessary fee. Should the requirement not be met, the Company will

communicate this in a separate current report.

The patent protection will increase the value of the potential

commercialization of the Company's technology with respect to the

Issuer's technological solutions for the next generation electronics

market. The reported event confirms continued delivery of the Company's

strategy of building a patent cloud for its proprietary technology and

products, which will contribute to building the Issuer's credibility

among potential industrial clients.

In view of the above, and considering the confirmation of uniqueness of

the Company's technological solutions, and then the outlook for the

Issuer's perception by investors, the Issuer's Management Board has

decided that the notice of allowance and information related to allowed

claims should be deemed confidential information. For this reason, in

the opinion of the Management Board, the information meets the criteria

set out in Article 7(1) of the MAR.

More information on page: http://biznes.pap.pl/en/reports/espi/all,0,0,0,1

Emitent/PAP
Reklama
Reklama
Reklama
Reklama
Strona główna INTERIA.PL
Polecamy
Finanse / Giełda / Podatki
Bądź na bieżąco!
Odblokuj reklamy i zyskaj nieograniczony dostęp do wszystkich treści w naszym serwisie.
Dzięki wyświetlanym reklamom korzystasz z naszego serwisu całkowicie bezpłatnie, a my możemy spełniać Twoje oczekiwania rozwijając się i poprawiając jakość naszych usług.
Odblokuj biznes.interia.pl lub zobacz instrukcję »
Nie, dziękuję. Wchodzę na Interię »